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中文名称：X射线反射法测量薄膜的厚度、密度和界面宽度 仪器要求、准直和定位、数据采集、数据分析和报告
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英文名称：Evaluation of thickness，density and interface width of thin films by X-ray reflectometry. Instrumental requirements，alignment and positioning，data collection，data analysis and reporting
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原文名称：
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中标分类：G04
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ICS分类：71.040.40
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标准分类编号：CN
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页数：30
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发布日期：2018-03-15
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实施日期：2019-02-01
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作废日期：
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被替代标准：
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代替标准序号：
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引用标准：
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采用标准化：ISO 16413-2013,IDT
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补充修订：
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标引依据：国家标准公告2018年第3号
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标准摘要：本标准规定了通过X射线反射技术(XRR)来测量平面衬底上厚度介于约1 nm～1 μm之间的单层和多层薄膜的厚度、密度和界面宽度的方法。本方法使用单色化的平行光进行角度或散射矢量扫描。类似的考虑事项适用于使用分布式探测器进行平行数据采集的会聚光束或者扫描波长的情形，但本标准不描述这些方法。对于X射线漫反射技术而言，实验要求是相似的，但本标准不包括这部分内容。测量可在具有不同配置的设备上进行。这些设备包含实验室仪器、同步辐射光束线上的反射率计以及工业中的自动系统等。应注意的是，数据采集时，薄膜可能存在的不稳定性将会引起测量结果准确度下降。XRR使用单波长入射X射线束、不能提供薄膜的化学信息，因此应注意样品表面可能产生的污染或反应。表面变化会严重影响最外层薄膜测量结果的准确性。
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