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 GB/T 45618-2025 实施:2025-11-01 现 行   

中文名:日盲紫外像增强器技术要求

英文名:Technical requirements for solar blind ultraviolet image intensifier

 GB/T 45506-2025 实施:2025-11-01 现 行   

中文名:剩余电阻比测量 谐振腔级铌超导体剩余电阻比测量

英文名:Residual resistance ratio measurement—Residual resistance ratio of cavity-grade Nb superconductor

 GB/T 45505.4-2025 实施:2025-11-01 现 行   

中文名:平板显示器基板玻璃测试方法 第4部分:力学性能

英文名:Test methods of flat panel display glass substrate—Part 4:Mechanical properties

 GB/T 29847-2025 实施:2025-10-01 现 行   

中文名:印制板用铜箔测试方法

英文名:Test methods for copper foil used for printed boards

 GB/T 31379.1-2025 实施:2025-10-01 现 行   

中文名:平板显示器偏光片测试方法 第1部分:理化性能

英文名:Test methods for polarizers of flat panel displays—Part 1: Physical and chemical properties

 GB/T 45721.1-2025 实施:2025-09-01 现 行   

中文名:半导体器件 应力迁移试验 第1部分:铜应力迁移试验

英文名:Semiconductor devices—Stress migration test—Part 1: Copper stress migration test

 GB/T 45720-2025 实施:2025-09-01 现 行   

中文名:半导体器件 栅介质层的时间相关介电击穿(TDDB)试验

英文名:Semiconductor devices—Time dependent dielectric breakdown (TDDB) test for gate dielectric films

 GB/T 45718-2025 实施:2025-09-01 现 行   

中文名:半导体器件 内部金属层间的时间相关介电击穿(TDDB)试验

英文名:Semiconductor devices—Time dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers

 GB/T 45716-2025 实施:2025-09-01 现 行   

中文名:半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的偏置温度不稳定性试验

英文名:Semiconductor devices—Bias temperature instability test for metal-oxide semiconductor field-effec

 GB/T 45722-2025 实施:2025-09-01 现 行   

中文名:半导体器件 恒流电迁移试验

英文名:Semiconductor devices—Constant current electromigration test

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