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中文名称：微束分析 分析电子显微术 层状材料截面像中界面位置的确定方法
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英文名称：Microbeam analysis. Analytical electron microscopy. Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materials
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原文名称：
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中标分类：N33
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ICS分类：71.040.50
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标准分类编号：CN
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页数：43
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发布日期：2023-09-07
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实施日期：2024-04-01
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作废日期：
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被替代标准：
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代替标准序号：
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引用标准：
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采用标准化：ISO 20263-2017,MOD
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补充修订：
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标引依据：国家标准公告2023年第9号
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标准摘要：本文件规定了用层状材料截面像所记录的两种不同材料之间平均界面位置的测定方法。本文件适用于透射电子显微镜（TEM)或扫描透射电子显微镜（STEM)所记录的层状材料截面像和X射线能谱仪（EDS)或者电子能量损失谱仪(EELS)所记录的截面元素面分布图。也适用于由数码相机、电脑存储器和成像板图像传感器所采集的数字像以及胶片记录的模拟像经扫描仪转换的数字像。本文件不适用于测定多层模拟法（MSS)获得的界面位置。注：TEM像/STEM像中界面两侧衬度差较小时，会导致像索强度剧烈震荡，所产生的噪声将影响平均界面位置的判定。
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